第83屆IUVSTA “含硼涂層的新視野：建模、合成、表征和應用”研討會將于2018年9月2日至6日在瑞典瓦斯泰納 (Vadstena) 舉行。

        網(wǎng)址:http://boronliu.com/

        含硼化物/硼涂層正在成為新一代硬質(zhì)、耐磨、抗氧化和抗腐蝕涂層本研討會旨在開展覆蓋范圍寬廣的含硼材料和合成技術的深入討論。它們包括諸如PVD和CVD技術，直至更復雜的方法，后者結合了氣體脈沖和/或功率脈沖技術。由世界范圍的主要科學課題組系統(tǒng)地向大會作報告。主題包括：

        ●新型含B材料的結構/性質(zhì)關系的建模和模擬
        ●在PVD和CVD合成過程中納米結構/組分的控制
        ●電弧濺射和磁控濺射靶的合成; CVD的新前驅體
        ●防護涂層：堅硬、耐磨、耐腐蝕、低摩擦、高溫應用
        ●用于X-射線、中子探測器和光學器件涂層

        大會報告人 - Jan‐Eric Sundgren, Swedish Association for Engineering Industries（瑞典工程業(yè)聯(lián)合會）, “The importance of research and innovation in securing sustainable growth in high wage economies” “研究和創(chuàng)新在確保高工資經(jīng)濟體可持續(xù)增長方面的重要性”。

        確認的受邀報告人
        Paul Mayrhofer, Technical University Vienna, Austria (維也納技術大學，奧地利)
        John Abelson, University of Illinois, USA (伊利諾伊大學, 美國)
        Weitao Zheng, Jilin University, China (吉林大學，中國)
        Jochen M. Schneider, RWTH Aachen University, Germany (RWTH亞琛大學，德國)
        Marcus Morstein, PLATIT AG, Switzerland (PLATIT AG 股份公司, 瑞士)
        Jinn Chu, National Taiwan University of Science and Technology, Taiwan（臺灣科技大學，臺灣）
        Jiri Houska, University of West Bohemia, Czech Republic（西波西米亞大學，捷克）
        Ulf Jansson, Uppsala University, Sweden（烏普薩拉大學，瑞典）
        Marián Mikula, Comenius University, Slovakia（夸美紐斯大學，斯洛伐克）
        Harald Hillebrecht, Freiburg, Germany（弗賴堡，德國）
        Peter Polcik, Plansee, Austria（Plansee，奧地利）
        Carina Höglund, ESS, Sweden（ESS，瑞典）
        Alexander Grishin, KTH, Sweden（KTH，瑞典）
        Sasa Bajt, Center for Free Electron Lasers at DESY, Germany（自由電子激光中心，DESY德國）
        Helmut Riedl, Technical University Vienna, Austria（維也納技術大學，奧地利）

重要日期：
        ●2018年4月1日，摘要提交截止日期
        ●2018年5月31日 - 所有參加者注冊
        ●2018年9月2 - 6日 - 研討會

研討會主席：
        Johanna Rosen, Jens Birch ‐ Linköping University
        Ivan Petrov, Joe Greene ‐ University of Illinois
        contact@boronliu