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中國真空學會2016學術年會征文通知(第二輪)
發(fā)布時間:
2016-02-25
作者:
中國真空學會
來源:
會議官方網(wǎng)站:www.cvsnet.org.cn
由中國真空學會主辦、云南師范大學與北京大學承辦的中國真空學會2016學術年會將于2016年8月12-14日在云南省昆明市舉辦。熱切希望全體學會會員、理事及科研院所、企業(yè)同仁等踴躍投遞論文。
大會將設一個主會場和六個分會場。(六個分會場分別是:1、真空科技與工程;2、表面科學與應用;3、薄膜科學與技術;4、納米科學與技術;5、電子材料與器件、等離子體技術;6、顯示技術等)。學術交流將采取多種形式:大會特邀報告,分會邀請報告,分會口頭報告,張貼報告,會間將評選“最佳張貼報告獎”。
征文范圍:
1. 真空科技與工程(真空科學與技術、真空工程、真空冶金與表面工程、真空獲得與測量、質(zhì)譜分析與檢漏)
2. 表面科學與應用(表面科學與技術、應用表面科學與技術)
3. 薄膜科學與技術(薄膜生長機理、制備技術和應用)
4. 納米科學與技術(納米科學與技術、納米生物與生物界面)
5. 電子材料與器件、等離子體技術(電子材料與器件、真空微電子學、等離子體物理與技術)
6. 顯示技術(顯示技術)
一、征文要求
1、本次學術會議歡迎與會者踴躍投稿,只需提交論文摘要(中、英文均可),網(wǎng)站上有摘要模版供下載編輯。
2、本次會議的摘要投稿請通過會議官方網(wǎng)站進行,
網(wǎng)址:http://www.cvsnet.org.cn,網(wǎng)站投稿開通時間為2016 年3月1日,參會者需要先在網(wǎng)站上注冊,然后根據(jù)摘要模板編輯摘要格式,并依照網(wǎng)站上說明提交摘要。(詳情見會議網(wǎng)站上的論文投稿流程說明)
3、大會將出版論文摘要集,為統(tǒng)一摘要格式,請務必采用網(wǎng)站提供的摘要模板編輯。
4、網(wǎng)上投稿時請務必填寫報告人、所屬的分會編號(大會邀請報告除外)、以及報告類型等信息。
5、摘要是否被錄用、以及報告的類型將在2016 年7 月份另行通知作者。
6、對于口頭報告,會議備有多媒體設備,請自備U 盤。
張貼報告請自行打印,尺寸:90cm× 120cm。
二、截稿日期
1、摘要截稿日期:2016年6月20日前。
2、摘要投稿過程中,如果遇到學術問題,請與所屬分會的負責人聯(lián)系。
3、摘要投稿過程中,如果遇到技術問題,請與中國真空網(wǎng)負責人聯(lián)系。
中國真空網(wǎng):馬雯卿電話:021-62121126 轉(zhuǎn)814
會務組:中國真空學會辦公室
地址:北京市朝陽區(qū)建國路93 號萬達廣場9 號樓612 室
郵編:100022
電話:010-58208908/58208985 傳真:58207735
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